广州某半导体材料心片造成厂，晶圆生产加工过程中 中诞生含硅、氟的异常生产废水解决工艺，装修设计进行解决大小1200吨/日。生产废水解决工艺组成错综复杂，内含微米级硅顆粒及氢佛酸，传统化进行解决技术仍未合格。 废水处理基本成分及渠道 其主要污染问题物 ：固体硅（100-500nm粒度分布）、氟亚铁离子（200-300mg/L）、异丙醇 起源步骤 ：晶圆刻蚀工业废水处理（45%）、CMP有机化学机械制造cnc精密机械加工工业废水处理（40%）、专用设备喷洗水（15%） 治疗新工艺流量 科技创新运用"化工沉定+特殊工种膜分开"科技线路： 钙盐沉淀自己 ：添加氯化钙剔除氟亚铁离子（转换成CaF2沉淀物中） 斜管沉淀池反映 ：复合型斜板沉淀池剂体现胶体溶液硅脱稳 管式微滤 ：0.1μm粒径膜公款私存微细颗粒状 反参透系统的 ：脱盐率>98%，出售率75% 化掉成果 ：浓水段进行氟化物达标排放物 不可能结果 氟化物质量浓度：<8mg/L（超过国内第一标准单位10mg/L） 硅含碳量：<5mg/L 水信息回收利用率：70%用作散热塔保湿 危险废弃物减量化：蒸发掉渣子量较过去的工艺流程增多60%