该厂为89英寸晶圆生产销售线配套设施的超净水体系,每星期出现含硅焦化废水150吨。焦化废水里面的虽无血本属,但硅份量高易积垢,且电容率需可达到18MΩ·cm可以回收。本来的治理 加工無法充分考虑新制定的《电子器材工业园水环境废弃物排污准则》(GB39731-2020)独特排污限制值。
污废水 营养成分亮点
主耍的挥发性有机物
:溶液硅(200-300mg/L)、小粒硅(粒级0.1-1μm)
专项 标准
:TOC<10μg/L,硼浓度<5μg/L
水质监测性质
:低水的电导率(<50μS/cm)但硅化学物质价值形式复杂的
补救加工过程生产流程图
研发选取"梯级膜分離+电去铁离子"组合名字工艺流程:
微滤预工作
:1μm工业陶瓷膜过滤大粒状硅,通量长期保持80LMH
亚铁离子相互交换聚酯树脂
:D201大孔不饱和树脂选泽性吸附物硅酸分子式
五级RO操作系统
:二、段收回率60%,二、段选用高脱硼膜元器件
EDI电去亚铁离子
:感应电流硬度2A/m²,坚持的还原残留铁离子
紫外线消菌
:254nm红外光谱线用量40mJ/cm²
新技术闪光点
建设专用箱阻硅剂(设计胺类和好物),廷缓膜严重污染寿命3倍
EDI版块创新性流道开发,硅除去率加快至99.8%
上线硅分析一下仪(侧量规模0.1-500μg/L)达成靶向管控
工作实效
经第3方检则:
总硅从280mg/L下降0.05mg/L
硼水平从8μg/L降为0.3μg/L
系统性二手回提取率从原40%升级至68%
膜进行更换期加长至5年,年运转资金有效降低35%