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硅片清洗废水处理案例|硅片清洗废水处理方法

该厂为89英寸晶圆生产销售线配套设施的超净水体系,每星期出现含硅焦化废水150吨。焦化废水里面的虽无血本属,但硅份量高易积垢,且电容率需可达到18MΩ·cm可以回收。本来的治理 加工無法充分考虑新制定的《电子器材工业园水环境废弃物排污准则》(GB39731-2020)独特排污限制值。 污废水 营养成分亮点 主耍的挥发性有机物 :溶液硅(200-300mg/L)、小粒硅(粒级0.1-1μm) 专项 标准 :TOC<10μg/L,硼浓度<5μg/L 水质监测性质 :低水的电导率(<50μS/cm)但硅化学物质价值形式复杂的 补救加工过程生产流程图 研发选取"梯级膜分離+电去铁离子"组合名字工艺流程: 微滤预工作 :1μm工业陶瓷膜过滤大粒状硅,通量长期保持80LMH 亚铁离子相互交换聚酯树脂 :D201大孔不饱和树脂选泽性吸附物硅酸分子式 五级RO操作系统 :二、段收回率60%,二、段选用高脱硼膜元器件 EDI电去亚铁离子 :感应电流硬度2A/m²,坚持的还原残留铁离子 紫外线消菌 :254nm红外光谱线用量40mJ/cm² 新技术闪光点 建设专用箱阻硅剂(设计胺类和好物),廷缓膜严重污染寿命3倍 EDI版块创新性流道开发,硅除去率加快至99.8% 上线硅分析一下仪(侧量规模0.1-500μg/L)达成靶向管控 工作实效 经第3方检则: 总硅从280mg/L下降0.05mg/L 硼水平从8μg/L降为0.3μg/L 系统性二手回提取率从原40%升级至68% 膜进行更换期加长至5年,年运转资金有效降低35%

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